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電鍍(du)常用知識

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赫爾(ěr)槽試驗

赫爾槽(cao)試驗是現代電(dian)鍍新工藝試驗(yàn),新助劑開發及(ji)改進🚶‍♀️,鍍液🈲工藝(yi)維護等過程中(zhong)最基本、最便捷(jie)的手段之一,不(bu)可或缺。不能熟(shu)練掌握赫爾槽(cáo)試驗,就稱不上(shàng)是合格的電鍍(du)技術♈工作者。然(ran)而,如何認識、正(zheng)确操作該項試(shì)驗,卻有許多問(wèn)題值㊙️得讨🏃🏻‍♂️論。

1.分(fèn)析化驗與小槽(cao)試驗

調整電鍍(du)液有三個途徑(jìng):一是憑經驗判(pàn)斷,二是進行化(hua)驗分析,三是通(tōng)過試驗判定。對(dui)應用年久、已有(you)經驗的老工藝(yì),憑觀察工件鍍(dù)層狀況,判定該(gai)如何🍉調整,不能(néng)說完全無用。例(lì)如:一🐪看氰化鍍(du)銅層的色澤、低(di)電流密度區狀(zhuang)況,就能立即判(pàn)斷出遊離氰濃(nóng)💃度的高低。但這(zhè)也隻能在鍍層(céng)已表現出異常(cháng)時才🏃🏻‍♂️能判斷,且(qie)要有相當豐富(fu)的實踐經驗,對(dui)新工藝、新助劑(jì)的采用則無法(fǎ)判定(因無經驗(yan)可言)

完全依分析(xī)化驗結果來調(diào)整鍍液的工藝(yi)人員,稱㊙️不🙇🏻上合(he)格,因🐇為分析化(huà)驗具有相當大(dà)的局限性。

1. 1. 1 分析(xi)方法本身有問(wen)題
有一名經驗(yàn)豐富、化學基本(ben)功很紮實的大(dà)學本科畢🍓業的(de)老分析員告訴(sù)筆者,書上所載(zai)的分析化驗♉方(fāng)法相互傳來抄(chao)去,其中有不少(shao)本身就有問題(ti)。筆者也學過分(fen)析化學、儀🌈器分(fen)析等專業課程(chéng),有些方法并不(bú)切👌合大生産實(shí)際。例如,用于化(huà)驗🧑🏽‍🤝‍🧑🏻分析氯化鉀(jia)鍍鋅液中氯化(hua)鉀的常規方法(fa)隻适于新配鍍(dù)液,而不适于大(dà)生👉産中應用已(yǐ)久的鍍液。講一(yī)個真實的故事(shi):多年前,一㊙️位電(dian)鍍廠化驗員與(yu)工藝員吵得🈲不(bu)可開交。化驗員(yuán)堅🐕持說自己的(de)化驗結果是準(zhun)确的,标準液✌️是(shi)剛标定了的,終(zhong)點判定也是準(zhun)确的,計❄️算無誤(wu),鍍液中的氯化(huà)鉀就是多了。工(gōng)藝員卻堅持說(shuō),氯化鉀就是少(shǎo)了很多,要至少(shǎo)補充60g/L才能生産(chǎn)。其實兩人都是(shi)對的。問題不在(zài)于誰是誰非,而(er)💁在于分析方法(fa)本身就存在有(yǒu)問題:先化驗總(zong)氯、總♉鋅,換☁️算出(chu)氯化鋅,餘氯再(zai)從理論上換算(suàn)為氯🔞化鉀。大🤩生(sheng)産中用鹽酸酸(suan)洗,清洗不淨(尤(you)其是管件)時,會(huì)将鹽酸不斷帶(dai)入鍍液中;平時(shi)因陰極電流效(xiào)㊙️率遠低于💯陽極(jí)電流效率,鍍液(ye)pH值會不斷上升(shēng),又用鹽酸調低(di)pH值,總氯量不斷(duàn)上升,而K+因帶出(chu)損耗又不斷減(jian)少。K+對提高鍍液(ye)電導率起重要(yào)作用(效果比Na+好(hǎo)),而上述工廠并(bing)無條件用選擇(ze)性鉀離子電極(jí)法或✏️高級儀器(qi)分析K+含量,隻能(néng)采用常規化驗(yàn)法分析總氯。因(yin)此化驗員雖然(ran)🎯很辛苦,但結果(guo)沒有任何作用(yòng);工藝員根據實(shí)際電鍍或實驗(yan)判定氯化💔鉀少(shǎo)了許多,是符合(hé)實際🔞的。類似的(de)問題還是應該(gai)以工藝試驗結(jié)果為準

1. 1. 2 工廠分(fen)析手段的欠缺(que)

現代儀器分析(xi)發展很快,對遠(yuan)在幾億光年的(de)星球,能用光譜(pǔ)分析其組分;我(wǒ)國嫦娥一号飛(fei)船繞月球飛行(hang),也能分析月球(qiu)表層組分含量(liang);DNA 法可分析千年(nian)古屍。但這些都(dou)要求采用高科(ke)技儀🚩器分析手(shǒu)段,一般電鍍廠(chang)沒有能力采用(yong)這些高級儀器(qi)分析☂️,連鍍液中(zhong)🔱微量金屬雜質(zhi)都難以分析,這(zhe)是現實。

1. 1. 3 化驗人(ren)員的責任心與(yu)操作水平

分析(xi)化驗的準确性(xìng)受人為因素影(ying)響很大。同樣一(yī)🈲種鍍液,找不同(tong)地方、不同化驗(yàn)人員分析,可能(neng)結果相差很大(dà),這與化驗人員(yuan)的責任心、知識(shi)水平、操作熟練(lian)程度密切相關(guan)化驗是一項要(yào)求科學嚴謹、細(xì)心耐心的工作(zuo)。例如使用分析(xī)天平的熟練程(cheng)度(對苛性鈉等(deng)易潮解物,動作(zuo)慢了則越稱越(yue)重),對标準溶液(yè)是否及時标定(dìng)、更新,滴定終點(diǎn)的判定,采用重(zhòng)量法時對沉澱(diàn)的洗滌與收集(ji)(如鍍鉻液,特别(bie)是低鉻鈍化液(yè)中硫酸的重量(liang)法分⭐析🙇‍♀️,光亮酸(suān)銅📐液中氯離子(zǐ)的常規分析等(děng)的結果幾乎不(bu)可信),幹擾物質(zhi)的去除等等,影(yǐng)響因素太多。

要(yào)考察化驗準确(què)性很簡單:精确(que)稱取分析純材(cái)料配液,叫化驗(yàn)一下,即可看出(chū)誤差。筆者原所(suo)在國營🙇‍♀️企業有(yǒu)一名正宗大學(xué)科班畢業的老(lao)化驗員,她對電(diàn)鍍液的分析在(zai)成都😘地區可稱(chēng)王牌水平,但帶(dài)的幾個徒弟都(dōu)半途而廢,原因(yīn)是不能達到她(tā)近乎苛刻的要(yào)求,比⛷️如搖三角(jiao)瓶要搖得均勻(yun),清洗燒杯、三📱角(jiao)瓶等要求内外(wài)完全親水,并用(yòng)蒸餾水淌一次(cì)。

1. 1. 4 無法常規化驗(yàn)的組分太多

鍍(dù)液中含量少、影(yǐng)響大的無機雜(za)質、有機雜質無(wu)法分析。現代廣(guǎng)泛采用由多種(zhǒng)有機中間體複(fú)配而成的添加(jiā)劑、光亮劑,即使(shǐ)知道組分,也無(wu)法分析;售品更(gèng)多以代号表示(shi),連組分都不知(zhī),分析化驗更無(wú)從談起。

作者并(bing)不否定分析化(hua)驗的作用,但常(cháng)規化驗僅供參(can)考🏃🏻‍♂️,還須輔以試(shì)驗驗證。對于合(he)金電鍍,鍍液或(huò)鍍層中合金元(yuán)素的多✂️少,難以(yi)通過試驗來确(què)定。此時,準确的(de)分析化驗就很(hěn)🛀🏻必要了

試驗(yan)可供選擇的方(fang)法有多種:(1) 在小(xiǎo)型鍍槽中利用(yòng)小型工件作小(xiao)試。此法用液量(liang)較大,且陰陽極(ji)距離近,不能真(zhen)實反映大生産(chan)的幾何因素對(duì)分散能力等的(de)影響,隻能作為(wéi)新工藝、新助劑(ji)等研發的第二(èr)階段試驗用(研(yán)發通常包括實(shí)驗室試驗、小試(shi)、中試和生産應(ying)用4 個階段)(2) 燒杯(bei)内試驗。小燒杯(bēi)試驗用液不多(duo),但用試片試驗(yàn)時,隻能反映某(mǒu)一特定🤟電流密(mi)度下的情況,難(nan)以在同一試片(pian)上反映出寬🎯電(diàn)流密度範圍内(nèi)鍍層的狀況,但(dàn)可用不同基體(ti)材料小件(特别(bié)是難鍍材料)判(pàn)定電鍍效果。(3) 赫(hè)爾槽試驗。其最(zui)大的優點是:能(neng)用很少的鍍液(yè),一次試驗即可(kě)🎯反映㊙️出十分寬(kuān)廣的電流密度(dù)範圍内鍍層的(de)狀況。它是實驗(yan)室應用最廣、最(zui)🌐快捷的試驗方(fāng)法。正因為如此(cǐ),一經發明,就迅(xun)速獲得了推廣(guang)應用。

2. 赫爾槽及(jí)陰極試片上的(de)電流分布

2. 1 赫爾(ěr)槽

赫爾槽是1939 年(nián)英國人R. O. Hull 發明的(de)一種小型電鍍(dù)試驗槽,又譯為(wéi)霍爾槽因形為(wei)梯形,故又稱梯(tī)形槽。按盛液體(tǐ)積來分,有1000mL534mL320mL267mL250mL 等多(duo)種尺寸。用得最(zuì)多的是267mL(英制用(yòng))250mL(公制用)兩種(zhong)。我國采用公制(zhì),為便于換算,多(duō)直接于267 mL的赫爾(ěr)槽中盛裝250 mL 鍍液(yè)使用。
2. 2 赫爾槽陰(yin)極試片上電流(liú)密度的分布

試(shi)驗時,在圖1中的(de)AD 邊放陽極,BC 邊放(fang)陰極試片。試片(pian)B 端距離陽極最(zuì)近,鍍液電阻最(zui)小,因而電流密(mi)度最大,稱為高(gao)端或近端;C 端正(zhèng)好相反,稱為低(dī)端或遠端。

标準(zhun)尺寸267 mL 赫爾槽的(de)陰極試片上,電(dian)流密度的分布(bu)可用下式(1)計算(suàn):

Jk = I (5.1 − 5.24 lgL) (1)

其中:

Jk──陰極上某(mou)位置的電流密(mi)度(A/dm2)

I──選用的電流(liú)強度,即試驗用(yong)電流(A)

L──陰極試片(piàn)上該位置距近(jìn)端的距離(cm)

(1)僅(jin)适于L 1~9cm 範圍内(nèi)的計算,L<1cmL>9cm 都不(bu)适用。

1 為計算(suàn)結果。
3.赫爾槽試(shì)驗的基本要求(qiú)

3. 1 電源

(1) 輸出直流(liú)紋波系數與大(da)生産用電源基(jī)本一緻。這就要(yao)求電流具有多(duō)種輸出波形供(gong)選擇,制作起來(lái)比較難。對于必(bì)須要求低紋波(bō)直流的工藝,應(yīng)采用低紋波直(zhi)流小電源。市場(chang)上部分高頻開(kai)關試驗用電源(yuan)能達到此要求(qiú)✔️。單相可控矽或(huò)矽整流的全波(bo)(或橋式)整流電(diàn)源若未加π 型濾(lü)波,也達不到要(yao)求(懂電器的人(ren)可購100W/24V 的變壓器(qì),用低壓側作電(dian)感線圈,另加2隻(zhi)24V/6800μF 的電解電容制(zhi)作濾波器)
(2)
輸出(chū)電壓0~15V、電流0~10A 的小(xiao)電源。電源額定(dìng)輸出電流越大(da),讀數越不準确(què)(尤其是動圈式(shì)電流表、電壓表(biǎo)),試驗不具有重(zhòng)現性。有人居然(ran)還用大生産用(yòng)的500A 整流器做赫(hè)爾槽試驗,實在(zai)令人費解。

(3) 最好(hǎo)帶有時間預置(zhi)定時聲音報警(jǐng),可不必死盯時(shi)間。時間不準,試(shi)驗重現性也差(chà)。

(4)必須同時有電(dian)流與電壓顯示(shi)電流相同時,電(dian)壓越低,說明鍍(dù)液電導率越高(gao)。對于光亮酸銅(tóng)液,2A攪拌鍍,正常(chang)試驗電壓應為(wéi)3.0~3.2V(與所用外電路(lu)線肯定硫酸多(duō)了。通過電壓即(ji)可大緻🈲判定♻️硫(liú)酸的多少。筆者(zhe)用的是自研自(zì)裝的0~15V0~5A 的小型單(dān)相電源,全波整(zhěng)流後大電容濾(lü)波,由具有恒🥰流(liu)特性的功率場(chang)效應管(VMOS )調整(zhěng)輸出,具有低紋(wén)波直流輸出,帶(dài)風冷且以撥碼(ma)🐅開關預置時間(jiān),到時音樂報警(jing)。

3. 2 陽極

3. 2. 1 材料

陽級(ji)用材料應與大(da)生産相同。如光(guang)亮酸銅用低磷(lin)銅陽極,鍍鉻用(yong)鉛錫陽極,鍍鋅(xīn)用0#鋅陽極,堿銅(tóng)用紫銅陽極,仿(pang)金鍍用仿金合(he)金陽極或H68黃銅(tóng)闆等。

3. 2. 2 尺寸

标準(zhǔn)尺寸為寬63mm、長65~68mm。不(bú)允許過窄,否則(zé)安放時或左或(huo)右,試驗重現性(xìng)差;也不🐕允許⁉️有(yǒu)缺角現象,用殘(can)了就應更新。厚(hou)度不宜💃大于5mm,否(fǒu)則液位上升過(guò)多,導緻試驗結(jié)果不準。可選生(sheng)産㊙️上用薄了的(de)陽極截割,但尺(chǐ)寸應符合要求(qiú)。筆者則制有模(mo)具,對于鋅、錫、錫(xī)鉛合金,用模具(ju)熔鑄多個備用(yòng)。

3. 2. 3 砂洗

由于赫爾(ěr)槽試驗時陰、陽(yáng)極(指平闆陽極(ji))的面積比約1∶0.63,但(dàn)大生産要求該(gai)比值大于1,因此(ci),對光亮酸銅等(děng)進行赫爾槽試(shì)驗時,時間久了(le)陽極可🔆能鈍化(hua)。若發現陽極有(you)鈍化現象(電流(liú)減小、電壓升高(gao)),應将其取出,砂(sha)洗幹淨或活化(huà)處理後再用。對(dui)于酸性亮銅,2A 攪(jiǎo)拌鍍5min,磷銅陽極(ji)不應鈍化;若鈍(dun)化了,則應尋找(zhǎo)原因(硫酸過少(shǎo)、氯離子不足、含(han)磷量過高等)

3. 3 陰(yin)極試片

3. 3. 1 材料

一(yi)般可用黃銅片(pian),鍍鋅與硬鉻則(zé)用冷軋鋼片。考(kǎo)察鋼🌈鐵件上無(wu)氰堿銅的結合(he)力時,用光亮冷(leng)軋鋼片;考察裝(zhuang)飾📐鍍鉻的光🏃🏻亮(liang)範圍時,用剛鍍(du)過亮鎳而尚未(wei)鈍化的試片♌。一(yi)般試☀️片經砂✂️洗(xǐ),或鐵試片褪鋅(xin)、褪鉻後,可重複(fú)使用多次,一次(cì)性使用則過⭕于(yu)浪費。

标準(zhǔn)尺寸為長100mm、寬65~68mm、厚(hou)0.3~0.5mm。過長,放不下,貼(tie)不緊;過短,或左(zuǒ)或右,試驗重現(xiàn)性差且電流密(mi)度🌈分布不正常(cháng)。最好用剪床下(xià)料,規矩、平整。

3. 3. 3 保(bǎo)存

若試片要保(bǎo)存供客戶看,鍍(du)後應鈍化(除鍍(du)鉻外)、吹幹,密封(feng)保存。可重複使(shǐ)用的試片,若是(shì)鋼片,則應褪除(chu)🏃‍♀️鍍層後存放于(yu)稀堿水中,以防(fáng)生鏽;對于光亮(liàng)酸銅試片,應存(cun)放于稀硫酸中(zhōng),防止嚴重氧化(hua)變色,否則再處(chu)理時🏃🏻‍♂️很麻煩。

3. 3. 4 鍍(dù)前處理

陰極試(shi)片的鍍前處理(lǐ)十分重要。試驗(yan)達不到預期效(xiao)果,與鍍前處理(lǐ)不細心關系很(hen)大。

3. 3. 4. 1 砂磨

由于試(shì)片本身或重複(fu)使用時鍍層硬(yìng)度可能相差很(hen)大🏃🏻,應備有640#850#甚至(zhi)金相砂紙等多(duo)種水砂紙。冷軋(zhá)鋼片鍍鋅一般(bān)不用✍️砂磨。重複(fú)使用的鍍鎳試(shì)片,應先用較粗(cu)的砂紙将亮鎳(niè)層磨至失光,再(zai)用細砂紙将粗(cu)砂路磨幹淨。鍍(dù)錫❄️、鍍銅、鍍銀層(ceng)很軟,要用840#以上(shàng)細砂紙砂磨,必(bì)要時再用金相(xiang)砂紙砂磨至基(jī)本看不見砂路(lù)。專門考察半光(guāng)亮鎳、亮鎳、酸銅(tóng)等的整平能力(lì)時,因一般無專(zhuān)❌門測試儀器,黃(huáng)銅試片應先抛(pao)光至鏡面光亮(liang),再用寬約5cm840#細(xì)砂紙在試片中(zhong)部沿長度方向(xiang)均勻磨出一條(tiáo)砂路帶🛀🏻,在相同(tong)條件下鍍10min後,比(bǐ)較砂路被填平(ping)的範圍。若考察(chá)鍍鎳液有無因(yīn)硝酸根造成的(de)低區漏鍍,銅試(shi)片低區2cm内應砂(sha)現銅。砂磨試片(piàn)應注意兩點:(1)細(xi)砂路應磨順直(zhi),不允許沿不同(tóng)方向或旋轉式(shi)地亂🌈磨,否則光(guang)亮電鍍後會造(zào)成誤判;(2)手指隻(zhi)能壓住長度方(fāng)向邊緣1cm處不受(shou)鍍的部分,因多(duō)數情況下砂磨(mo)後不用再除油(yóu),若按🤩住受☎️鍍部(bù)分,鍍後會留下(xià)指紋印。砂磨試(shi)片是做赫爾槽(cáo)試驗的基本☀️功(gong),也是第一道關(guān)口。砂磨試片不(bu)合格,試驗難免(miǎn)問題百出。

3. 3. 4. 2 試片(pian)背面絕緣

不少(shǎo)人做試驗時試(shi)片背面不作絕(jué)緣處理,這是不(bú)對的。因每次夾(jia)持試片時貼緊(jǐn)槽壁的程度不(bú)一樣(特别是試(shi)片薄而不平整(zhěng)時),背面消耗的(de)電流不一樣,正(zhèng)面的電流也就(jiù)不一樣,結果重(zhong)現♉性差。簡單的(de)辦法是在幹燥(zào)試片背面貼🐅透(tòu)明💯膠帶🏃🏻‍♂️,其寬度(dù)應足夠,無氣泡(pao)。若用銅試片,用(yong)剪床剪取表面(mian)無壓痕、銅箔較(jiào)厚💘的單面印制(zhi)闆最好,背面不(bú)用再作絕緣㊙️,可(kě)重複使用多次(ci)。

3. 3. 4. 3 除油與活化

采(cǎi)用手工除油:用(yong)細布沾水泥漿(jiang)、室溫除油劑、優(yōu)質洗衣粉等擦(cā)🏃🏻‍♂️洗除油。若砂磨(mo)過的試片已能(neng)完全親水,可不(bu)再除油;若不能(néng)完全親水,則應(yīng)除油至全部親(qin)水。用堿性除油(yóu)後或浸泡于堿(jian)水中的鐵試片(piàn)時,清洗後要做(zuo)活化處理。對新(xin)砂🍉磨後又親水(shui)的試片,因砂磨(mo)已去掉表面鈍(dun)化層,可不經活(huó)化,水洗後立即(ji)鍍。

3. 3. 4. 4 鍍前水洗

3. 4 加(jiā)溫(冷卻)與攪拌(ban)

3. 4. 1 加溫與冷卻

3. 4. 2 鍍液攪拌

攪(jiao)拌雖可減小濃(nóng)差極化,擴大允(yun)許陰極電流密(mi)度,但會使光亮(liang)整平範圍向高(gao)端移動,導緻低(dī)電流密度區光(guang)亮整平性下降(jiang)。攪😍拌強度不一(yī)樣,鍍層的光亮(liàng)整平性也不一(yī)樣。筆者不主張(zhāng)用帶空氣攪拌(ban)的赫爾槽作空(kong)氣攪拌,原因是(shi)這種整體注塑(sù)的赫爾槽 ,出氣(qì)孔的㊙️孔徑大而(er)且分布稀疏,對(duì)試片攪拌不👅均(jun1)勻,鍍層易出現(xiàn)亮度不一的豎(shu)狀條帶,可能👨‍❤️‍👨造(zao)成💞誤判。若孔🏃‍♀️小(xiao)而密,一是注塑(su)困難,二是易堵(du)塞,三是換液清(qing)洗較麻煩。故甯(ning)可多花點勞力(lì),采用普通赫爾(ěr)槽,用直徑3mm左右(yòu)的細玻棒,按約(yuē)每秒一個來回(hui)的均勻速度,在(zài)陰極表面附近(jìn)來回作機械攪(jiao)拌。這樣,試驗的(de)重現性好得多(duo),也易判斷鍍液(yè)本身是否會使(shi)鍍層産生豎狀(zhuang)條紋。

3. 5 電流強度(du)與時間的選擇(ze)

應根據工藝要(yao)求及試驗目的(de)來靈活選擇。一(yī)般而言,半⭐光亮(liàng)鎳、亮鎳、光亮酸(suan)銅,2A攪拌鍍5min左右(you),專門考察整平(ping)能力時鍍10min;硫酸(suān)鹽光亮鍍錫,1A攪(jiǎo)拌鍍5min;氯化物鍍(dù)鋅,2A靜鍍5min;鋅酸鹽(yan)鍍鋅,3A靜鍍5min;無氰(qíng)堿銅,1A攪拌鍍5min;氰(qíng)化鍍銅,2A靜鍍3~5min。要(yao)特别考察深鍍(du)能力或低區雜(za)質影響,是否有(you)漏鍍(如硝酸根(gen)造成鍍鎳低區(qu)漏鍍)及處理效(xiào)果時,以0.1~0.3A 3~5min。當所(suo)用電流太小,電(dian)壓太低時,應串(chuàn)接小量程數字(zì)式電流表,并接(jie)電壓表作測定(ding)(可用數字式萬(wan)用表的直流電(dian)流、電壓檔),否則(ze)讀數不準,重現(xiàn)性差。筆者試驗(yan)HEDP無氰堿銅時曾(céng)用過50mA,試驗深孔(kong)鍍鎳時用過30mA。要(yào)判定主鹽濃度(du)時,可用大電流(liu)靜鍍。如新配亮(liang)鎳液,3A靜鍍5min 後,高(gāo)端應無燒焦,生(sheng)産液應做到2A靜(jing)鍍後高端無燒(shāo)焦。

3. 6 換液

因隻用(yong)250mL鍍液,故鍍液的(de)各種組分消耗(hao)快。2A5min時,鍍4次就(jiù)應另換新液。

3. 7 陰(yīn)、陽級的夾持

钛(tai)夾子最好,但貴(guì)且不好買。一般(ban)用較大的鳄魚(yu)夾🌈,但市面上的(de)鳄魚夾多為鐵(tie)件滾鍍薄層亮(liàng)鎳,很易🌂生鏽㊙️。使(shǐ)用鳄魚夾夾持(chí)陰、陽極時應注(zhù)意以下幾點:(1)夾(jiá)持時,接導線的(de)一邊應與陰、陽(yáng)極的使用面接(jiē)觸,不能夾⭐反了(le),否則導電不好(hao);(2)用後立即以清(qing)水清洗,電吹風(feng)吹幹;(3)鏽蝕嚴重(zhong)時應換新。

4.加料(liào)及條件的改變(bian)

4. 1 赫爾槽試驗應(ying)遵守的原則

赫爾槽試驗時(shi),無論是工藝條(tiáo)件還是鍍液組(zǔ)分,一次隻能☎️改(gǎi)變一個因素,不(bú)能同時改變兩(liang)個或兩個以上(shang)的因🎯素,否則無(wú)💃法判定是哪一(yi)個因素的變更(geng)在起作用。例如(ru),氯化鉀鍍鋅燒(shao)焦區過寬時,若(ruo)既調低鍍液pH值(zhi)又同時補加主(zhǔ)鹽氯化鋅,則不(bú)對。若pH值過高,應(yīng)先調低pH值至正(zhèng)常值試一次。pH值(zhi)正常後若燒焦(jiao)區仍寬,則應補(bǔ)加硼酸試一次(ci),還不行時☁️才能(neng)考慮補加氯化(hua)鋅。

4. 1. 2 先易後難原(yuan)則

試驗時要從(cong)一般電鍍規律(lü)入手,先改變易(yì)測定、判斷的因(yīn)素,并🏃‍♂️抓住主要(yao)矛盾,才能少走(zǒu)彎路。下面舉兩(liǎng)個例子。

【例1】鍍液(ye)pH值與液溫對電(dian)鍍效果影響很(hěn)大,但容易測定(ding)。比如,對于☎️亮鎳(nie)低區光亮性不(bú)足的現象,應先(xian)用精密pH 試紙測(cè)定pH值,若過低,低(di)電流密度區效(xiao)果肯定差,且光(guāng)亮劑用㊙️量大增(zēng)(吸附效果變差(chà)),此時應先調高(gao)pH(最好加一水(shuǐ)合碳酸鈉幹粉(fen),攪拌至氫氧化(hua)鎳完全溶解)。試(shi)驗後如果可以(yǐ),就不必補加光(guang)亮劑。當亮鎳液(ye)溫低于45°C時,很難(nan)鍍亮,此時應測(ce)定液溫,調整至(zhì)52~55°C再試。pH值不低而(ér)液溫又夠時,應(ying)判斷硼酸是否(fǒu)足夠(取液冷至(zhi)室溫後應有較(jiao)多結晶才行),不(bú)夠則補加硼酸(suan)後再試。若硼酸(suan)也夠,補加10~15g/L氯化(huà)鎳進行試驗。若(ruo)不行,才考慮補(bu)加光亮劑或低(dī)區光亮走位劑(jì)之類。若還不行(hang),則考慮是否銅(tong)雜質過多或有(yǒu)少量🚶硝酸💯根存(cun)在。千萬不能一(yi)開始就猛加光(guāng)亮劑,一是✏️成本(běn)高,二是過量則(zé)有害無益。要明(ming)确亮鎳的規律(lü):pH值過低、硼酸過(guo)少、氯離子過少(shǎo),都會導緻低電(diàn)流密度區♌光🥰亮(liàng)整平性差。

【例2】六(liù)價鉻鍍鉻試驗(yan)若發現原液光(guang)亮範圍窄,低區(qu)無黃⛷️膜,應🙇‍♀️先加(jia)少量碳酸鋇,沉(chen)澱部分硫酸根(gen)後進行試驗。原(yuan)因是采用2~3級回(huí)收時,硫酸隻會(hui)增加不會減少(shǎo)。對于标準的六(liù)價鉻鍍鉻溶液(yè)而言,分散能力(lì)的最佳時的硫(liu)鉻比不是100∶1, 而是(shi)155∶1。多數廠的硫酸(suan)根都偏高。若低(di)區緊靠鉻層有(yǒu)黃膜,補加鉻⭕酐(gan)進行試驗。若液(yè)色發黑,則應考(kao)慮是否三價鉻(gè)含量過高。

4. 1. 3 趨優(yōu)化原則

若改變(bian)某一工藝條件(jiàn)或補加某一組(zu)分,赫爾槽試片(pian)與原液相比,結(jie)晶細緻光亮範(fan)圍加寬或某一(yī)故🌏障好轉,則說(shuō)明😘這一改變是(shi)正确的,應繼續(xù)改變該👌因素,以(yi)找出最佳值。相(xiàng)反,若改變某一(yī)因素後鍍層還(hai)不如原液狀況(kuàng)好,則🔴說♌明這🛀🏻一(yi)⚽改變是錯誤的(de)。

4. 2 樣液及補加材(cái)料的要求

4. 2. 1 樣液(ye)的準備

鍍液中(zhong)作為溶質的各(ge)種組分都有一(yi)個最佳含量或(huò)其組合,過多或(huò)過少都有害。赫(hè)爾槽試驗的主(zhǔ)要目的之一就(jiù)在于尋求其最(zui)佳含量或範圍(wéi),某些有交互影(yǐng)響作用的組分(fen)則要尋😍找其最(zui)佳組合。對于加(jia)入量很少的組(zǔ)分,應先準确📞計(jì)量後,配成标準(zhǔn)濃度的稀液,盛(sheng)于廣口磨口棕(zong)色玻璃瓶備用(yòng)。例如,某些光亮(liang)劑的💜開缸量僅(jǐn)1mL/L左右,應将其配(pèi)成0.01mL/mL的标準液,供(gòng)調整補加試驗(yan)用。自配酸銅光(guāng)亮劑,标準液的(de)♻️濃⛱️度為:MN0.01mg/mLSP2mg/mLP10mg/mL;氯離(lí)子:2mg/mLAESS0.01mL/mL。調整光亮劑(ji)時,每次一種,加(jiā)0.5~1.0mL250mL液中。若光亮(liàng)劑本來不足,一(yi)下加入過多後(hou)導緻了🤞不良作(zuo)用,會🔴誤判為其(qí)本身過多,得出(chū)不宜補加的錯(cuo)誤結論。

試驗所(suǒ)用化工材料應(yīng)與工業生産的(de)一緻(生産廠家(jia)及生産批次也(yě)應一樣)。所有材(cai)料都要用塑料(liao)瓶備有樣品,并(bìng)貼好标簽。若試(shì)驗時用分析純(chun)材料而大生産(chan)時用含雜質較(jiào)多、含量不一♋的(de)工業級📧材料,則(zé)無法以試驗結(jié)果指導🔴生産。250mL赫(he)爾槽中加1g 相當(dāng)于4g/L。稱量應準确(que)。宜用準且快、精(jing)度0.1g 0.01g 的電子天(tiān)平,不宜再用架(jia)盤藥物天平。加(jiā)入液體時,應準(zhǔn)㊙️備🔆多支1mL5mL醫用(yong)注射針筒,分開(kāi)使用,以免混液(ye)(清洗不淨所緻(zhi))。這樣,計量快且(qie)較準确。用後應(ying)徹底清洗幹淨(jing)。

5.試驗結果的判(pan)定與記錄

5. 1 結果(guo)判定

5. 1. 1 鍍後試片(pian)的處理

陰極試(shì)片鍍後應認真(zhen)清洗幹淨,必要(yào)時用細布抹洗(xǐ)。有條件的🙇‍♀️宜用(yòng)純水清洗後再(zai)用電吹風吹幹(gan)。若未用✨純水清(qing)洗過,則吹幹時(shi)先開冷風,将試(shi)片傾斜約45°,從低(dī)端至高端将表(biǎo)面的積水吹掉(diao),再開熱風吹幹(gàn),以免🆚直接❗用熱(rè)風吹幹時幹燥(zao)過快,試片表面(mian)因水的硬度高(gāo)而産💘生水迹,造(zao)成對光亮整平(píng)性及均勻🌍性的(de)誤判。

5. 1. 2 放大鏡仔(zai)細觀察

采用20倍(bèi)以上的放大鏡(jìng),對好焦距及調(diao)整光線反射角(jiao)度至🈲最清📧楚時(shi),仔細觀察鍍後(hòu)(或鍍前)試片的(de)狀況。對于光亮(liang)酸銅鍍層,肉眼(yan)看時光亮整平(píng)性不足,但難辨(bian)原因。用放大鏡(jìng)仔細觀察時,可(kě)能有三💋種情🔞況(kuàng):(1) 肉眼不可見的(de)微細凸起物為(wéi)主,其原因可能(neng)是液🏃中💔一價銅(tóng)💰過多而造成微(wei)細Cu2O夾附,或采用(yong)高染料型光亮(liàng)劑時染料聚沉(chén)懸浮物夾附,又(yòu)🔞或是♻️鍍液不夠(gou)清潔。用5μm以上精(jīng)度的過濾機認(ren)真過濾即可(實(shi)驗時用精密濾(lü)紙過濾後再試(shì))(2) 以微細凹下麻(ma)點為主,這是鍍(dù)液潤濕性不足(zú)所引起的。如M–N–SP–P體(tǐ)系中P過少而M過(guò)多。(3) 以不規則條(tiáo)帶狀凸起沉積(ji)為主,其原因是(shi)鍍液整平能力(li)不足。如B劑、高位(wèi)劑之類不足,M–N–SP–P體(tǐ)系中SPP不足,或(huo)氯離子過多等(deng)引起。現象不一(yī)樣,原因大不相(xiang)同,解決辦法也(ye)不一樣。
5. 1. 3 試片低(di)區光亮性的判(pàn)斷

不少人因試(shi)片砂路太粗,将(jiāng)低區砂路未被(bèi)整平誤判為不(bú)光亮。低區光亮(liang)與否,應在試片(piàn)吹幹後沿長度(du)方向傾斜對光(guāng)觀⭐察,若❌無泛紅(hong)、泛黃、灰霧等,而(ér)是光亮均勻,則(ze)應判為光亮。若(ruo)正面觀看不夠(gou)光亮,則是因鍍(dù)層未能整平砂(sha)路造成光線漫(màn)反🌂射所緻。若電(dian)流效率為100%,則赫(he)爾槽2A5min後,距低(di)端1cm處的鍍層最(zuì)大厚度,對于二(èr)價銅鹽鍍光亮(liàng)酸銅而言是0.221μm,鍍(dù)亮鎳則是0.206μm。小于(yú)1cm處的鍍層厚度(dù)更薄。即使鍍前(qián)用新的1000#水砂紙(zhi)磨過,砂路深度(du)也遠大于此,一(yi)般光亮劑根本(běn)無🌍法使👈其填平(ping)。除非鍍前試片(pian)磨抛至近鏡面(mian)光亮,才能反映(yìng)出真實光亮效(xiào)果。此時若鍍液(yè)因雜質🎯或光亮(liang)劑不良而造成(cheng)問題,即使基體(tǐ)很亮,也可能🐪出(chu)現發黃、泛紅、灰(hui)霧等現象。

5. 2 試驗(yàn)記錄

5. 2. 1 試驗條件(jiàn)的記錄

每做一(yī)輪試驗,都應記(ji)錄目的、時間、人(ren)員、生産槽編号(hào)🌈、鍍🐉種等信🐪息。試(shì)驗後應作結論(lun)分析,包括故障(zhang)原因、解✉️決辦✔️法(fǎ)、處理程序、應🌈加(jia)各種材料的量(liàng)等。原液必須先(xiān)做一次。每做一(yi)個試片❌,都應記(ji)💃🏻錄電流,電鍍時(shi)間,電壓,液溫,攪(jiao)拌🔞與否及攪拌(ban)方式,當次試驗(yàn)的改變因素及(jí)其數值,累計改(gai)變量等,越詳細(xì)越好。

5. 2. 2 試片狀況(kuang)的記錄

一般采(cai)用250mL赫爾槽做試(shi)驗,陰極試片長(zhǎng)度為100mm。建議用帶(dai)橫格的記錄本(běn),每間隔一格用(yòng)鉛筆畫出長100mm的(de)矩形框,供1∶1 對齊(qí)記錄試片狀況(kuàng),間隔處供記錄(lu)試驗條件。

試片(piàn)上部與下部鍍(dù)層的狀況不一(yī)樣。如圖1所示,按(àn)照國際慣例,記(jì)錄試片有鍍層(céng)部位1/21/2+1cm條帶内(nei)的鍍層狀況。圖(tu)1為國際上比較(jiao)通行的用符号(hào)記錄鍍層狀況(kuàng)的示例(主要取(qu)自日本野田平(ping)著日文《電鍍實(shí)用手冊》)。當無法(fǎ)用符号表示時(shi)🙇‍♀️,則用文字注明(ming),如漏鍍記、泛(fàn)彩、灰霧等。

有的(de)赫爾槽高、低端(duān)剛好相反。若發(fa)表論文時,應标(biāo)明高🔞端與低🈲端(duan)、所用符号意義(yi)。

6.赫爾槽試驗的(de)應用

赫爾槽試(shi)驗有多方面的(de)廣泛用途。舉例(lì)如下。

6.1判斷化工(gōng)材料的質量。在(zai)僞劣産品充斥(chi)的情況下, 對所(suǒ)購化工材料是(shì)否可用特别是(shi)雜質多的、用廢(fei)舊材料制作或(huò)實際含量低的(de)工業品, 務必先(xian)通過赫爾槽試(shì)驗判定能否用(yòng)、用量要多大。不(bu)經試驗💰而貿然(rán)加入生産大槽(cáo), 加進去容易, 取(qǔ)出來就難了,如(ru)不少工業硫酸(suan)鎳都含有硝酸(suān)根及銅雜質。

6.2确(què)定添加劑的加(jia)入量無論添加(jiā)劑開發還是生(shēng)産液中各種添(tian)加劑的調整, 赫(hè)爾槽試驗幾乎(hu)是不可缺少的(de)最佳實驗手段(duàn)

6.3确定最佳工藝(yì)條件。通過赫爾(er)槽試驗确定最(zui)佳pH值、鍍液溫度(du)、攪拌方式及攪(jiao)拌強度, 大生産(chǎn)允許陰極電流(liú)密度範圍等工(gōng)藝條件。

6.4測定鍍(dù)液的分散能力(lì)。試片鍍厚一點(dian), 用小探頭測厚(hou)儀測定不同點(dian)的鍍層厚度, 可(ke)比較鍍液分散(san)能力。有赫爾槽(cao)三點法與八點(dian)法兩種, 在此不(bú)再贅述。

6.5判斷鍍(du)液的深鍍能力(lì)。有文獻介紹的(de)方法是試片背(bèi)面不絕緣, 鍍後(hòu)看試片背面鍍(dù)層狀況來判斷(duan)深鍍能力。這是(shi)不恰當的, 原因(yīn)是每次試驗時(shí)試片與槽壁緊(jǐn)貼的程度不一(yī)樣, 試片薄時有(yǒu)的并不很平整(zheng), 背面鍍層狀況(kuang)大不一樣, 試驗(yàn)無重現性、可比(bi)性。正确的方法(fǎ)是對背面絕緣(yuan)的試片, 逐漸減(jiǎn)小試驗用電流(liú),直至低端有漏(lòu)鍍現象, 在同樣(yang)電鍍條件下比(bi)較低端漏鍍範(fàn)圍。所用電流❓越(yue)小✍️、低端♌漏鍍越(yuè)少, 則鍍液深鍍(dù)能力越好。

6.6确定(dìng)雜質的影響及(jí)處理辦法。對難(nan)以分析而對電(dian)沉積影響又大(dà)的雜質, 可用赫(he)爾槽試驗來判(pàn)斷及尋求處理(lǐ)辦法。對已有明(míng)确認🏒識的❄️雜質(zhì)影響, 易于判斷(duàn)。比如鍍鎳液中(zhōng)有硝酸根, 會造(zào)成高電流密度(du)區鍍層燒焦起(qǐ)皮處發黑, 低電(dian)流密度處鍍層(céng)漏鍍。

6.7判斷主要(yào)材料的含量或(huò)加入量。如氯化(huà)鉀鍍鋅液中的(de)氯化鉀、氯化鋅(xin)、硼酸等, 許多工(gong)藝的主鹽濃度(du)、絡合劑多少等(deng)。具體内容很多(duō), 故不詳述。

6.8判定(ding)鍍層脆性。比如(rú)可采用赫爾槽(cáo)試驗簡單判斷(duàn)亮鎳層的脆性(xing)。

7.赫爾槽試驗的(de)局限性

赫爾槽(cáo)試驗的局限性(xing)也是有的, 并非(fei)萬能。例如:

7.1難以(yi)直接判定合金(jīn)電鍍時鍍層合(he)金的比例。仿金(jīn)鍍有經驗時, 尚(shàng)可由鍍層色澤(zé)大緻判定合金(jīn)比例,并尋求接(jie)近金色的陰極(ji)電流密度範圍(wéi)。但對于鋅-鎳、鋅(xīn)-鐵、鎳-鐵等合金(jin), 則隻能依靠分(fen)析化驗了。

7.2難以(yi)判定不同材質(zhì)的電鍍效果。試(shì)驗時用鐵試片(piàn)或銅試片, 鑄造(zao)鐵件、粉末冶金(jin)件、钕--硼等多(duo)孔材質以及钛(tài)、鋁、可伐合金等(deng)難鍍金屬的電(dian)鍍效♉果🤞很難判(pan)定。

8.試驗(yan)結果不能指導(dǎo)生産的問題

有(you)的人因為試驗(yan)結果用于大生(sheng)産時的不一緻(zhì)性,而對該試驗(yan)不重視或持否(fou)定态度, 是不對(dui)的。

産生這種現(xiàn)象的主要原因(yin)有

(1)取液不具有(yǒu)代表性。有的低(dī)檔電鍍廠過濾(lǜ)設備不到位, 鍍(dù)液很髒, 調pH值、補(bu)加添加劑、補充(chōng)蒸發水後, 隻敢(gǎn)在液面附近輕(qīng)微攪拌一下, 因(yīn)為若攪勻了則(ze)底部沉渣泛起(qi), 鍍層粗糙而無(wu)法生産。若試驗(yan)從鍍液表層直(zhí)接取, 則不具有(you)代表性。應采用(yong)分析化驗取樣(yang)法取樣在鍍液(ye)不同位🌏置、不同(tóng)深度用取液管(guan)分别取液, 混合(hé)均勻後做試驗(yàn)。若對亮鎳等硼(péng)酸含量高的鍍(dù)液取冷液做試(shì)驗, 則硼酸含量(liàng)顯示不足。應在(zai)鍍液加溫并将(jiang)槽底硼酸結晶(jīng)👈認真攪溶後, 取(qǔ)熱液做試驗。

(2)所(suǒ)用試驗電源的(de)紋波系數與大(dà)生産整流器的(de)不一樣。若大生(shēng)産用電源的輸(shū)出直流是低紋(wen)波的, 而實驗所(suǒ)用單相小整流(liu)器輸出直流的(de)紋波系數很大(da), 則試驗效果與(yu)大生産效果不(bu)一緻。反之亦然(ran)。試驗用電🏃🏻‍♂️源的(de)直流紋波系數(shù)應與大生産一(yī)緻才行。這就要(yào)求試驗電㊙️源應(yīng)有多種輸出直(zhí)流方式供選擇(zé)。脈沖電鍍應采(cai)用脈沖直流小(xiao)電源, 且頻率、占(zhàn)空比等參數與(yu)大生産相一緻(zhì)。

(3)試驗時馬虎大(dà)意赫爾槽試驗(yan)時必須講求科(kē)學, 态度嚴謹, 否(fǒu)則得不出正确(què)結果。本講對該(gai)試驗提出了許(xu)多嚴格要求近(jìn)乎苛求, 但卻是(shi)筆者幾十年的(de)應用經驗總結(jie), 有其中一條未(wei)辦好都不行。世(shi)界上怕就怕`認(rèn)真' 二字” , 科技工(gōng)作者無十分認(rèn)真的精神, 隻會(hui)一事無成

 



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